对于中国光刻机未来的发展

大陆的半导体代工企业大概什么时候能超过台积电？这个问题是说十年内，二十年内还是一百年内？

我目前就在ASML公司工作，做的就是最新一代的EUV光刻机。这么说吧，咱们先别说把（EUV）光刻机给造出来，就是把（EUV）光刻机给用好都是一件无比复杂的事情。

台积电算是我们的客户，我很佩服台积电的工程师或者说他们整个的体系。他们对光刻机的使用达到了某种让人钦佩的高度，多的东西涉及到保密不能谈。

打个比方，如果台积电是美国海军拥有十艘十万吨级核动力航母，中国芯片制造商大概就是中国海军，而且是在辽宁舰未拖进港时期的中国海军。你说中国会不会有朝一日造出十万吨级别的核动力航母？这个当然有可能，但是什么时候能造出来，这个真的不好说，需要天时地利人和都具备了才行。这些条件包括或者可能包括：

国家要下大决心，要做好十几年甚至二十年一直亏钱的准备；外部技术封锁要有些松动（包括各种光学器件、光刻机、光刻胶等等……）；要有一流人才愿意给中国效力（比如钱学森这种大牛）；需要大量从业的工程师来进行过渡；三星、Intel，台积电的某一家要出一个大问题，倒闭或者破产，这样能让出市场份额，给予中国公司发展机会；新技术恰好在国家大力投入的时候兴起（实现弯道超车）；

讲句心里话，有这个钱重新在中国建立起一家台积电一样的公司，还不如用这个钱直接收编台积电。从成本上来看，后者很可能更加便宜。

要我说，台积电这种巨无霸如果不是遇到芯片制造的重大革命，或者其他危机，中国企业很难超越！

我总有一种朦朦胧胧没有根据的感觉，我觉得未来的芯片很可能不是硅片，而是碳，是石墨烯的某种应用。

所以，如果从大的笼统的方面来说，中国用新的芯片制造技术超越台积电还是可能的。

大家可能对所谓芯片制造不太了解。这么说吧，如果欧洲一夜之间蒸发了，美国想要重新造出性能相似的光刻机来，至少需要五年！

所以中国要造新型EUV光刻机并不是中国单挑美国，而是中国单挑外国！别的不说，高性能的滤光片，对极端紫外线高反射率的镀膜，耐用的商业激光器……没有一个是中国自己能够造出来的！更确切的说，不是中国造不出来，而是美国有很多也造不出来！

镀膜、滤光片、半反半投镜……这些技术低性能也就罢了，高性能的产品都是一年一年试出来的，欧洲起步早，试验的多就是世界最强！

中国起步晚，短时间内就是造不出来。因为，没有这些基础器件，谈造EUV光刻机就是天方夜谭！

所以造光刻机跟造航母不一样，航母并没有在全球的产业链里面。而光刻机是全球产业链整合出来的产品。针对中国的技术封锁如果没有松动，需要重复做的事情太多，绝非十年二十年，靠中国单打独斗能成的。

假如大家还觉得市场、钱、政策能够大跃进式地造出光刻机，那就是绝对错误的认识。

我觉得吧，承认某些东西自己确实不行，努力也不行，需要外国帮助，也不是什么坏事。盲目乐观才会断送自己的前程。

当然EUV作为新一代的技术能够实现7nm、5nm的光刻，虽然更加先进，但是如果真的台积电被迫不能给中国代工，我们依然可以使用老一点的技术。使用老一点的技术也足以保证国内正常的需要。这也是为什么国家在这个领域没有那么大的动力和决心的一个原因。

总之呢，EUV光刻机可以看作是美元霸权的衍生品。美元霸权还在，中国就无法在这一领域取得重大突破。当且仅当EUV光刻机所需的基础配件能够自由进口到中国的时候，中国才有可能在这个领域有突破。

最后，我再强调一个概念！可以商用化的产品跟实验室里能够实现之间差了十万八千里！实验室里实现的意思是不考虑成本，不考虑稳定性，能够有那么一次或者两次做成。

商用产品的概念是：稳定、高效、可控、能赚钱！

就EUV光刻机来说，中国做得最好的大概是长春光机所，也就是搭建了一套实验室的EUV光源设备，而且从技术的实现来看，他们选择了另外一条技术路线，EUV输出的可控性必然不足，商业化依然有巨大瓶颈。至于ASML现阶段的技术，就算中国造出一模一样的东西来，还有专利的麻烦在那里，要规避这一堆专利而商业化几乎做不到。

这东西跟航母、战斗机不一样。航母，战斗机你就算仿造别人的也没法起诉侵犯专利。光刻机你要是用同样的原理，光是赔专利侵权就要倾家荡产。

总之呢，如果技术不革新，这一块儿中国想要后来者居上几乎做不到。至于台积电，它是使用EUV光刻机的厂商，如果大陆都没有EUV光刻机可用，谈什么超越台积电呢？