尹志堯的5nm 技術___<<一個海歸牛人是改變不了高科技狀態的>> 補充

這幾天網上又把尹志堯的5nm 技術 (還沒真用於生產)翻出來抄, 包括倍可親。小編夢故意或不懂， 混淆刻蝕和光刻， 搞得好像天朝已經解決了芯的問題。世界又嚇尿了。暫且假設報道一切都是真的,該技術已用於大規模工業生產（尹志堯自己說還得五年才能商業化）, 中國的芯也不能一步登天。不能浮躁,得踏踏實實做長久的努力。這是我為什麼寫 了<<一個海歸牛人是改變不了高科技狀態的>>。寫作本文絲毫沒有對尹先生成就不敬的意思。

 網友"看風景的蝸牛君" 在去年九月的評論很好的解釋了這個技術.  在此分享:

"很多人看到新聞說可以刻蝕到5nm，就以為國內掌握了5nm晶元製造工藝，超出英特爾等巨頭了，這是個極大的誤解。之所以會產生這種誤解，是因為大家對晶元製造工藝完全不了解，各個步驟分不清。簡單地來說，刻蝕是晶元製造中的重要一環，但更重要的一環叫做光刻。

要製成一個晶元，首先要通過光刻機將設計的集成電路「縮印」到光刻膠上，這個過程往往需要進行多次，這也是整個晶元製造流程中最最重要的一環，所謂的7nm啊之類的都是指這個步驟中光刻圖形的最小特徵尺寸。中國現在最為缺乏的就是這個最最核心的環節，離世界一流水平還有相當大的差距。

而將集成電路縮印到光刻膠之後，經歷一系列步驟，才會進行刻蝕的環節。等離子體刻蝕機屬於干法刻蝕的一種，即不會使用化學溶液，而是將氣體電離形成等離子體，利用電場加速后，利用等離子體對錶面進行刻蝕的工藝。

理清楚了這個關係，再回來看這個問題。這項技術的高水平是毋庸置疑的，即便在世界範圍內也是一流的，尹志堯先生髮展的這項技術對國內半導體工業的貢獻是巨大的。同時也要分辨清楚，5nm刻蝕與5nm光刻不是一回事，更不意味著可以做出5nm晶元。我們在晶元領域還有很長的路要走，千萬不要盲目自大。"

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