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用電子束刻晶元很先進，能研究出特殊電子膠也能量產吧

作者：雲海暖流  於 2022-9-25 13:41 發表於 最熱鬧的華人社交網路--貝殼村

通用分類:熱點雜談|已有2評論

今天看了＜2個硅原子寬度！美國造出0.7nm晶元：EUV光刻機都做不到＞新聞，也證實了我不久前的猜想可以用電子束代替光束．不過，報道也說了量產困難．

我也設想過用舊電視顯像的掃描原理來代替光刻機上的EUV．以電子束代替光束．特殊的電子刻膠代替目前的光刻膠．可惜，我不搞這行的．沒有研究所實驗室無法實現．

目前，電子束光刻是不需要光刻掩膜版，想刻出什麼圖形，在人機界面用類似於EDA畫圖的方式直接輸入。刻蝕的精度非常高，普通科研機構用的，完成納米級工藝毫無難度。

但是，如果要用e-beam lithography來做量產，這就涉及到一個很嚴重的問題：產量 （throughput）。換句話，e-beam Lithography雖然精度高，但是實在是太慢了。傳統的光刻好比照相，光打到光刻掩膜版上只是幾秒時間甚至更短．所以，生產快，產量大．通過光學系統，光學掩膜版上的圖形就整體成像到硅晶圓，顯影之後在電子顯微鏡下就能看到。但是.....e-beam是用好比手工作畫，把圖形一點點的用電子束『刻' 出來。因此，生產速度慢．產能低．

不過，如果能研究出電子膠，也可以用掩膜版來電子掃描曝光．如同舊電視的電子掃描．這樣量產的速度就會提高了．根據正負電子湮滅成光子的原理，可以用正電子掃描，負電子做成電子膠．或其它的特殊材料做成電子膠．這會完全顛覆了目前的光刻技術．



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發表評論 評論 (2 個評論)

回復 浮平 2022-9-25 23:14
EBL 用於製作模板比較有意義，可以在 1-10nm 之間使用。但直接用於刻薄膜生產就會遇到成型定型的複雜工藝過程。
回復 雲海暖流 2022-9-26 10:52
浮平: EBL 用於製作模板比較有意義，可以在 1-10nm 之間使用。但直接用於刻薄膜生產就會遇到成型定型的複雜工藝過程。
不刻膜難以大量生產．估計應該可以研究出對電子敏感的材料作為模板．

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